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產品簡介
新一代Orbis聚焦型掃描X-射線熒光能譜儀也稱熒光探針，采用聚焦X射線照射，光路系統采用正置式，可在大氣壓力或低真空環境下檢測樣品。該儀器可進行視頻圖象采集和圖象拼接，微區及整體成分的定性定量分析，以及線、面元素的分布分析，檢測極限為ppm級。
技術參數
1.微聚焦X光管最大功率50kV,50W, 1.0mA
2.試樣上X光聚焦點直徑300um、100um、30um、20um及連續可變?
3.自動發射束濾波系統（包括全開、關閉和6個濾片，共8個位置）
4.10x及100x(300x)彩色CCD攝像頭
5.樣品室尺寸標準型:直徑360mm,高310mm（大樣品室型為700x700x700mm）
6.自動樣品臺行程100x100x100mm(大樣品室型為300x300x100mm）
7.?標準精度計算機控制的XYZ樣品臺
8.樣品臺載重量: 5Kg,10Kg(大樣品室)
9.可以在真空下或大氣壓下進行檢測
10.可以進行單點或給定多點的自動分析
11.可以進行單視域或多視域組合的元素分布分析（面掃描與線掃描）
12.可以進行超越單視域的元素分布分析（在組合視域中選擇單幅元素分布分析范圍）
選購件：
? Mo靶的X-光管（50kV，50W）
? 替代300 μm單級毛細管的100 μm單級毛細管
? 與單級毛細管光學相關聯的自動準直器（1 mm和2 mm）；由軟件控制選擇。
? Apollo?XL 30mm2 硅漂移檢測器
? 軟件：譜分布圖，圖像處理軟件，線掃描，涂鍍層分析，譜匹配，合金分析以及用于數據處理的離線式譜儀軟件。
產品特點
1.樣品范圍寬:液體,磁性,絕緣體,少量粉末等。
2.樣品尺寸大：塊狀樣品可達270x270x100mm（大樣品室型則更大）。
3.焦點小，可進行點、線、面的分布分析。
4.能量利用率高，X光管功率小，維護簡便。
5.無損檢測，使用方便，自動化程度高。
6.工作距離長。便于進行非平坦樣品的分析。
7.可應用于材料研究、生物醫學、司法鑒定、文物保護與鑒定、環境保護等多領域。
8.豐富的軟件不僅滿足定性、定量和元素分布分析，還可以進行涂鍍層厚度、合金分析、檢索與分類分析以及RoHS、WEEE的檢測等。
