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濕電子化學品指為微電子、光電子濕法工藝（主要包括濕法刻蝕、清洗、顯影、互聯等）制程中使用的各種電子化工材料。按用途可分為通用化學品（又稱超凈高純試劑）和功能性化學品（以光刻膠配套試劑為代表）。
其中超凈高純試劑需求量占比達88%，占比的依次是，硫酸、雙氧水、氨水、氫氟酸、異丙醇、硝酸以及磷酸；功能性化學品占比達12%，占比依次是，半導體用顯影液、刻蝕液、面板用顯影液、剝離液以及緩沖刻蝕液。
梅特勒托利多電位滴定儀在電子濕化學品中的應用非常廣泛，以下精選部分典型應用：
電位滴定儀
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01 通用濕電子化學品
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硫酸鈰法測定雙氧水含量
雙氧水含量的滴定通常有高錳酸鉀法和硫酸鈰滴定法，由于硫酸鈰作為滴定液非常穩定，可以直接配制而不用標定就可以等到標準溶液，使用非常方便。
取0.1~0.5g雙氧水，加DI水至錐形瓶20mL刻度，加20mL 20%硫酸用0.1mol/L硫酸鈰標液滴定,滴至終點。
雙氧水含量結果
采用高錳酸鉀法測定雙氧水含量，操作簡單，檢測快速（3-5min），測定結果準確，測定重復性相對標準偏差可控制在1%以內。
儀器配置：電位滴定儀，DMi140-SC氧化還原電極，DV1010滴定管
其他通用化學品解決方案
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02 功能性濕電子化學品
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顯影液-四甲基氫氧化銨測定
梅特勒托利多電位滴定儀可有效控制四甲基氫氧化銨的含量，方法參照SJ/T11636-2016 電子工業用顯影液中四甲基氫氧化銨的測定電位滴定法。
方法：精密稱取適量樣品（精確到0.0001g），置于滴定杯中，加入50mL去離子水，用0.1N鹽酸滴定液進行滴定，以第一個等當點計算四甲基氫氧化銨含量。
采用兩種方法對四甲基氫氧化銨的測定結果準確，重復性好，最大絕對誤差均小于0.01%。
儀器配置：電位滴定儀，DGi111-SC/DGi115-SC酸堿滴定電極，DV1020滴定管。
緩沖刻蝕液-氟化銨和氫氟酸測定
緩沖刻蝕液主要用來刻蝕晶圓上深槽的SiO2氧化膜。氧化膜的腐蝕速度在溫度一定時，主要取決于腐蝕液的配比和SiO2參雜情況。采用梅特勒托利多電位滴定儀測定腐蝕液的配比，測定結果準確，重復性良好。
精密稱取適量樣品，加入50ml水稀釋，用0.1mol/L氫氧化鈉進行滴定，滴定過程中有兩個突躍，第一個突躍為HF的滴定終點，第二個突躍為氟化銨的滴定終點。
HF的pKa為3.45，NH4+的pKa為9.25，所以第一個突躍為HF的滴定終點，第二個突躍為NH4F的滴定終點。根據HF和NH4+解離平衡常數的區別，采用一步滴定即可測定HF和NH4F的濃度。
儀器配置：電位滴定儀，DGi111-SC/DGi115-SC酸堿滴定電極，DV1010滴定管
鋁刻蝕液-硝酸、磷酸、醋酸三元混酸含量的滴定
方法一 ，主要應用是鋁刻蝕液原料監控：
刻鋁酸含量測定（4%HNO3、75%H3PO4、10%HAc）
滴定劑（0.2 M KOH-2-Isopronal）
溶劑：乙醇：丙二醇=1：1
儀器：電位滴定儀+DGi113-SC非水酸堿滴定電極
方法二 ，主要應用是鋁刻蝕液生產槽監控——分步滴定，原因：樣品在生產中帶入了鋁等其它離子會影響測定
第一步：利用氧化還原法，采用0.1N 硫酸亞鐵銨滴定HNO3
溶劑：硫酸-水（4：1）
第二步：利用酸堿滴定，采用0.5N NaOH滴定H3PO4 和 HAc
用飽和氯化鈉水溶液作溶劑：V1是硝酸+磷酸的第一個H，V2是HAc磷酸的第二個H
其他功能性濕電子化學品測定解決方案
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03 DispenSix全自動取樣、在線滴定系統
在線分析系統所有化學分析部件均采用模塊化設計，分析模塊設計及材料選用完全耐腐的高性能材料如：玻璃, PTFE, PVDF 和 FEP。在實際運用中，用戶可以根據檢測指標進行配置，并根據工廠生產要求自行設定最適宜的分析周期。自動采集樣品和分析測定，分析過程結束后，儀器自動用去離子水沖洗反應杯，將分析結果顯示到儀器屏幕，并通過以太網將數據傳輸至中控室LabX軟件工作站。同時labX工作站還可以實現與LIMS、ERP等系統的數據對接，真正實現24小時無人值守的監控。
全自動高精度取樣單元Liquid Handler是一個有6個閥門的滴定管功能，可以精準吸液、潰液和準備，可在生產線上實時監控槽液酸、堿、銅離子等含量。下面是Liquidhandler分別在線測定六價鉻的和在線測定鈾含量的方案，可見梅特勒托利多在線滴定系統的多元化。
模塊化的設計，任意零部件磨損或者老化可以進行更換和維修，維修方便簡單，經過培訓，客戶可以自己進行更換和維修。
現今，中國已成為全球最大的半導體消費市場。物聯網、5G通信、人工智能等下一輪終端需求，為中國大陸半導體產業發展創造了新的機遇。精藝興業致力為客戶提供更多樣的解決方案。
圖文cr梅特勒托利多
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